设备特点：

★结构紧凑，占地面积小

★操作简单，设备购置成本低

★设备可单靶溅射或多靶共溅射

设备特点：

★可在大尺寸平面样品表面制备膜层（单面或双面）

★设备配置灵活，设计合理操作简单

★工艺稳定性及重复性好

★具备可拓展功能

★非标定制：设备尺寸、磁控靶尺寸可根据样品尺寸设计

设备特点：

★设备可与手套箱配合使用，也可单独使用

★设备配置灵活，高集成设计

★设备可单靶溅射或多靶共溅射