应用方向：科研与教学

适用范围：氧化物、氮化物、金属等薄膜

设备特点：

★设备可与手套箱配合使用，也可单独使用

★设备配置灵活，高集成设计

★设备可单靶溅射或多靶共溅射

产品参数：

★腔体尺寸：400（L）×400（W）×450（H）（单位：mm）

★极限真空：≤4×10^(-5)Pa

★设备保压：保压12小时≤5Pa

★衬底：加热或水冷可选

★溅射靶及数量：3英寸，3套；兼容直流脉冲及射频溅射电源，高度及角度可调；

★溅射电源：3台，电源类型根据实际需求选配

★镀膜不均匀性：φ150mm内±5%

★清洗功能：偏压或离子源清洗可选

★控制方式:全自动或半自动控制可选