SVD350高真空磁控溅射镀膜机

应用方向：科研与教学

适用范围：氧化物、氮化物、金属等薄膜

设备特点：

★结构紧凑，占地面积小

★操作简单，设备购置成本低

★设备可单靶溅射或多靶共溅射

产品参数：

★腔体尺寸：φ350×400（H）（单位：mm）

★极限真空：≤5×10^(-5)Pa

★设备保压：保压12小时≤5Pa

★衬底：加热或水冷可选

★溅射靶及数量：2英寸，3套；兼容直流脉冲及射频溅射电源，高度及角度可调；

★溅射电源：3台，电源类型根据实际需求选配

★镀膜不均匀性：φ75mm内±5%

★清洗功能：偏压或离子源清洗可选

★控制方式:半自动控制方式