应用方向：科研、小批量生产

适用范围：光学薄膜

设备特点：

★工艺稳定性及重复性好

★样品台定制：

穹顶式：装载量大

行星式：样品公自转，均匀性好

产品参数：

★EBVD500腔体尺寸：φ500×600（H）（单位：mm）

★EBVD600腔体尺寸：φ600×750（H）（单位：mm）

★EBVD500样品台尺寸φ200

★EBVD600样品台尺寸φ300

★极限真空：≤8×10^(-5)Pa

★设备保压：保压12小时≤10Pa

★衬底：加热或水冷可选

★电子枪：E型

★电子枪功率：8—10kw

★电子枪坩埚：6穴，20cc

★清洗功能：考夫曼离子源选配

★膜厚控制：膜厚控制方式：速率控制、速率及膜层终厚控制可选

★EBVD500镀膜不均匀性：φ200内±5%

★EBVD600镀膜不均匀性：φ300内±5%

★控制方式:全自动或半自动控制可选