应用方向：科研与教学

用途：制备金属、无机物及有机物薄膜等

设备特点：

★一体化设计，性能稳定

★可定制各类专用蒸发舟，适于多种特殊材料的蒸发

★设备配置灵活且具备一定的拓展空间

产品参数：

★腔体尺寸：400（L）×400（W）×450（H）（单位：mm）

★极限真空：≤6×10^(-5)Pa

★设备保压：保压12小时≤Pa

★衬底：加热或水冷可选

★掩膜版：提供定制

★蒸发源数量：4—6组(兼容金属蒸发和有机蒸发数量可选）

★膜厚控制：膜厚控制方式：速率控制、速率及膜层终厚控制可选

★镀膜不均匀性：100×100mm内±5%

★控制方式:全自动或半自动可选