EVD300高真空电阻蒸发镀膜机
应用方向:科研与教学
用途:蒸镀电极、扫描电镜制样等
设备特点:
★结构紧凑,占地面积小
★操作简单,设备购置成本低
产品参数:
★腔体尺寸:φ300×380(H)(单位:mm)
★极限真空:≤6×10^(-5)Pa
★设备保压:保压12小时≤5Pa
★蒸发源数量:2组(电源数量1-2台可选)
★膜厚监控功能:速率控制、速率及膜层终厚控制可选
★镀膜不均匀性:90mm内(±5%)
★控制方式:半自动