承载真空技术,宽广科技之路

EVD300高真空电阻蒸发镀膜机

应用方向:科研与教学

用途:蒸镀电极、扫描电镜制样等

设备特点:

★结构紧凑,占地面积小

★操作简单,设备购置成本低

产品参数:

★腔体尺寸:φ300×380(H)(单位:mm)

★极限真空:≤6×10^(-5)Pa

★设备保压:保压12小时≤5Pa

★蒸发源数量:2组(电源数量1-2台可选)

★膜厚监控功能:速率控制、速率及膜层终厚控制可选

★镀膜不均匀性:90mm内(±5%)

★控制方式:半自动

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